產(chǎn)品概述：

核磁共振專用陣列水模為一種非液體介質(zhì)的功能磁共振成像專用體模，用來克服掃描過程中液體晃動對質(zhì)量控制檢測結果的影響。方法選用六水合氯化鎳（niCl2·6H2O），制作功能磁共振成像陣列專用體模。結果測試表明，各項檢測性能指標優(yōu)于常規(guī)體模，較好地克服了液體晃動造成的信號漂移，并對偽影的抑制也有較為明顯的效果，達到了預期目的。結論自制的專用體模能客觀反映設備穩(wěn)定性能，可應用于研究所、第三方實驗室或者醫(yī)療器械廠家進行功能磁共振檢查前設備性能的評估。

示意圖

主要技術參數(shù)：

1，  材料：高純度PMMA，無雜質(zhì)，無氣泡

2，  未注尺寸以3D模型為準，未注公差參考GB/T 1804-m

3，  溶液：注滿濃度為0.05 mol/L的氯化鎳

4，  耐壓測試：灌注溶液后無滲漏

5，  包裝：防摔，防凍

6，  絲印：黑色，線寬3mm。

核磁共振專用陣列水模為一種非液體介質(zhì)的功能磁共振成像專用體模，用來克服掃描過程中液體晃動對質(zhì)量控制檢測結果的影響。方法選用六水合氯化鎳（niCl2·6H2O），制作功能磁共振成像陣列專用體模。結果測試表明，各項檢測性能指標優(yōu)于常規(guī)體模，較好地克服了液體晃動造成的信號漂移，并對偽影的抑制也有較為明顯的效果，達到了預期目的。結論自制的專用體模能客觀反映設備穩(wěn)定性能，可應用于研究所、第三方實驗室或者醫(yī)療器械廠家進行功能磁共振檢查前設備性能的評估。